현재 기술로는 불가능하다는 `20㎚ 반도체`보다 더 미세한 반도체를 만들 수 있는 기반기술이 개발됐다. 회로선 폭이 20㎚급(1나노는 10억분의 1ｍ) 반도체는 개발됐으나 20㎚ 이하 미세한 공정은 현재 기술로는 상업성이 부족해 상용화되지 않고 있다.

포스텍은 29일 화학공학과 김진곤 교수팀이 수소결합을 이용해 지금까지 기술로는 불가능하다고 여겨졌던, 폭이 비대칭적이고 간격이 수 ㎚에 불과한 나노패턴(반도체 회로)을 기판에 구현하는 방법을 개발했다고 밝혔다.

이 연구는 미국 텍사스주립대 벤캣 가네산 교수팀과 공동으로 진행됐으며 나노 분야 권위지인 `에이시에스 나노(ACS Nano)`지 온라인판 최신호에 게재됐다.

차세대 반도체용 리소그래피(반도체 회로를 그리는 방식)의 새로운 대안으로 평가받는 이 기술은 수소결합을 이용해 계면의 구조를 조절하면 나노구조가 변하는 원리를 이용했다.

김진곤 교수는 "나노구조가 자동적으로 형성되는 자기조립 현상을 활용한 보텀업(Bottom up) 방법으로 10㎚ 이하 비대칭 나노패턴을 제조할 수 있다"면서 "이 기술은 차세대 반도체 핵심 기술 중 하나인 차세대 리소그래피 개발에 큰 도움을 줄 것으로 기대된다"고 말했다.

이 연구는 교육과학기술부가 지원하는 `창의적 연구진흥 사업`으로 수행됐다.